contrôle de gravure anisotrope. D'autres halocarbures, ainsi que la présence d'air ou d'oxygène, sont préjudiciables au contrôle des résultats du tétrafluorure dans un contrôle supérieur du processus, ce qui se traduit par de meilleurs dimensions et profil. Dans des conditions de carbone ou de CF2 de plus grande pureté, les radicaux libres de fluor sont généralement sous la forme de CF3Le tétrafluorure de carbone est relativement inerte dans des conditions normales et est asphyxiant. Sous RF plasmaprocesses. Le tétrafluorure de carbone est utilisé avec de l'oxygène pour graver le polysilicium, le dioxyde de silicium et le nitrure de silicium. Le tétrafluorure de carbone est une source de radicaux libres de fluor ou de fluorure de carbone utilisés dans une variété de gravures de plaquettes
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